Předmět objasňuje principy pokročilých technologií zaměřených na přípravu tenkých vrstev, povlaků, nanostruktur, integrovaných obvodů a optoelektroniky. Zahrnuje metody pro depozici z plynné, kapalné, i pevné fáze, jak za atmosferického tlaku, tak ve vakuu, s i bez použití plasmy, laserového záření, iontového leptání, elektronového děla, odporových odpařovacích zdrojů, naprašování, nebo leptání. Zaměřuje se především na vysvětlení fyzikálních principů těchto procesů a odpovídajících technologických a analytických zařízení a komponent (např. zdrojů svazků elektronů, iontů a neutrálních částic). Zároveň objasňuje nejpoužívanější metody pro charakterizaci připravovaných materiálů s důrazem na in-situ metody.