Předmět podává přehled pokročilých technologií zaměřených na depozici tenkých
vrstev a povlaků a přípravu nanostruktur, zejména v podmínkách vakua. Zaměřuje
se především na vysvětlení fyzikálních principů těchto procesů a
odpovídajících technologických a analytických zařízení a komponent (např.
zdrojů svazků elektronů, iontů a neutrálních částic).
Literature
BRODIE, I., MURAY, J. J.: The Physics of Micro/Nano-Fabrication, Plenum
Press, New York, 1992;
VÁLYI, L.: Atom and Ion Sources, John Wiley and Sons Ltd (March 1, 1978);
ECKERTOVÁ, L.: Physics of Thin Films, Plenum Press, New York, 1986;
FELDMAN, L. C., MAYER, J. W.: Fundamentals of Surface and Thin Film Analysis,
Elsevier Science Publishing Co., Inc., 1986;
RIVIERE, J. C.: Surface Analytical Techniques, Clarendon Press, Oxford, 1990.
Advised literature
BRODIE, I., MURAY, J. J.: The Physics of Micro/Nano-Fabrication, Plenum
Press, New York, 1992;
VÁLYI, L.: Atom and Ion Sources, John Wiley and Sons Ltd (March 1, 1978);
ECKERTOVÁ, L.: Physics of Thin Films, Plenum Press, New York, 1986;
FELDMAN, L. C., MAYER, J. W.: Fundamentals of Surface and Thin Film Analysis,
Elsevier Science Publishing Co., Inc., 1986;
RIVIERE, J. C.: Surface Analytical Techniques, Clarendon Press, Oxford, 1990.