Přeskočit na hlavní obsah
Přeskočit hlavičku

Praktikum pokročilých technologií přípravy nanostruktur I

Anotace

Cílem praktika pokročilých technologií přípravy nanostruktur je získání praktických dovedností v oblasti depozice tenkých vrstev metodou PVD a procesů laserové litografie. Bude využito výzkumných laboratoří a speciálních studentských technologických laboratoří.

Povinná literatura

OHRING, M.: Materials Science of Thin Films. 2nd ed. San Diego: Academic Press, 2002.
BRODIE, I., MURAY, J. J.: The Physics of Micro/Nano-Fabrication. Plenum Press, New York, 1992;
VÁLYI, L.: Atom and Ion Sources. John Wiley and Sons Ltd (March 1, 1978);
MACK, C. A.: Field guide to optical lithography, SPIE Press 2006.
SLAVÍČEK, Pavel; ŠTĚPÁNOVÁ, Vlasta; KELAR, Jakub. Vakuová fyzika 1. 2016.

Doporučená literatura

LIN, B. J.: Optical Lithography, SPIE Press 2010.
ECKERTOVÁ, L.: Physics of Thin Films. Plenum Press, New York, 1986
FELDMAN, L. C., MAYER, J. W.: Fundamentals of Surface and Thin Film Analysis. Elsevier Science Publishing Co., Inc., 1986


Jazyk výuky čeština, angličtina
Kód 653-3159
Zkratka PPTPI
Název předmětu česky Praktikum pokročilých technologií přípravy nanostruktur I
Název předmětu anglicky Practice of Advanced Nanostructure Preparation Technologies I
Garantující katedra Katedra materiálového inženýrství a recyklace
Garant předmětu Ing. Zuzana Gelnárová, Ph.D.