Praktikum pokročilých technologií přípravy nanostruktur I

Typ studia	navazující magisterské
Jazyk výuky	angličtina
Kód	653-3159/02
Zkratka	PPTPI
Název předmětu česky	Praktikum pokročilých technologií přípravy nanostruktur I
Název předmětu anglicky	Practice of Advanced Nanostructure Preparation Technologies I
Kreditů	3
Garantující katedra	Katedra materiálového inženýrství a recyklace
Garant předmětu	Ing. Zuzana Gelnárová, Ph.D.

Subject syllabus

Laboratorní cvičení zahrnuje přípravu vrstev kovů, polovodičů a dielektrik a zvládnutí litografického procesu. Je založeno na následujících dílčích celcích:
1. Příprava tenkých vrstev metodou PVD – zvládnutí procesu kontroly depozice magnetronovým naprašováním a evaporací, práce s vákuovým systémem, počítačového řízení procesu
2. Litografický proces zahrnující příprava fotorezistu metodou spin coating, zadání a expozice struktury pomocí laserového litografu, vyvolání a finalizace litografického procesu
3. Kontrola připravovaných struktur ex-situ metodami – elipsometrie, spektroskopie, optická mikroskopie, AFM, elektronová mikroskopie

Literature

OHRING, M.: Materials Science of Thin Films. 2nd ed. San Diego: Academic Press, 2002.
BRODIE, I., MURAY, J. J.: The Physics of Micro/Nano-Fabrication. Plenum Press, New York, 1992;
VÁLYI, L.: Atom and Ion Sources. John Wiley and Sons Ltd (March 1, 1978);
MACK, C. A.: Field guide to optical lithography, SPIE Press 2006.
SLAVÍČEK, Pavel; ŠTĚPÁNOVÁ, Vlasta; KELAR, Jakub. Vakuová fyzika 1. 2016.

Advised literature

LIN, B. J.: Optical Lithography, SPIE Press 2010.
ECKERTOVÁ, L.: Physics of Thin Films. Plenum Press, New York, 1986
FELDMAN, L. C., MAYER, J. W.: Fundamentals of Surface and Thin Film Analysis. Elsevier Science Publishing Co., Inc., 1986

back to search page